勢銀研究 | 全球光刻相關(guān)配套功能試劑供應(yīng)廠商及產(chǎn)品品類盤點
光刻相關(guān)配套功能試劑是指在集成電路制造工藝中與光刻膠配套使用的功能濕電子化學(xué)品，產(chǎn)品大類主要包括增黏劑、稀釋劑、去邊劑、顯影液和剝離液，另外電鍍和蝕刻藥液一般是在晶圓制造、先進封裝的光刻環(huán)節(jié)后會采用的兩種功能型試劑。
大部分配套試劑的組分是有機溶劑和微量添加劑，溶劑和添加劑都是具有低金屬離子及顆粒含量的高純試劑，產(chǎn)品規(guī)格基本要求在G4、G5等級，對于低分辨率線寬IC產(chǎn)品，要求會在G3等級。
此外，抗反射涂層材料也會配合光刻膠使用，其主要作用是消除光刻膠——基片界面及光刻膠——空氣界面的反射，降低由衍射引起的駐波效應(yīng)對光刻膠性能的影響。
*若有部分廠商及產(chǎn)品未統(tǒng)計在內(nèi)，或有較大出入，還請聯(lián)系文末作者，我們會在后期做統(tǒng)一更正及補充。
表1 全球光刻相關(guān)配套功能試劑廠商及產(chǎn)品
來源：勢銀（TrendBank）整理